Новости и события

Разработан процесс формирования сплошных монокристаллических пленок серебра толщиной в диапазоне 35-100 нм. Пленки получены методом электронно-лучевого испарения и обладают шероховатостью поверхности не хуже 0,2 нм (RMS) на площади 2,5х2,5 мкм и 0,5 нм на площади 90х90 мкм.

В рамках реализации составной части проекта Фонда перспективных исследований по исследованию технологических методов воспроизводимого изготовления многокубитных сверхпроводящих схем разработана технология воспроизводимого изготовления туннельных джозефсоновских переходов Al-AlOx-Al

В НОЦ ФМН разработан процесс фотолитографии с применением негативного резиста SU-8 толщиной до 50 мкм. Разработаны технологическая операция нанесения толстых 50 мкм пленок резиста SU-8 с неравномерностью толщины ±5% (3σ) по 100 мм кремниевой пластине...

В рамках внутреннего инициативного проекта по разработке технологии формирования оптических волноводов для применения в изделиях нанофотоники (устройства связи и передачи информации, интерферометры, однофотонные детекторы и т.п.) ...