Установка лазерной литографии μPG 101, Heidelberg Instruments (Германия)

 
Установка представляет собой лазерный генератор изображения с технологией «прямого письма» для литографии. Позволяет создавать топологию микроструктур на кремнии, стекле, различных пленках и других плоских образцах, покрытых i-line фоторезистом без фотошаблонов.

Основные характеристики и возможности:
  • максимальное разрешение: < 1 мкм;
  • неровность края структур [LER, 3σ]: 120 нм;
  • однородность ширины линии [3σ]: 200 нм;
  • сетка экспонирования: 40 нм;
  • диапазон автофокуса: 80 мкм;
  • скорость экспонирования: 5 мм2/мин;
  • точность совмещения [3σ]: 200 нм;
  • область экспонирования: до 100 х 100 мм;
  • размер образца: до 125 х 125 мм (включая образцы произвольных конфигураций);
  • режим экспонирования в оттенках серого (создание 3D структур, микро-линз, линзовых антенных решеток и т.д.).
Последние события ФМН