Осаждение из паровой фазы

Установка плазмохимического травления и осаждения из газовой фазы, Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания) 

   
Установка плазмохимического травления Oxford Instruments с использованием фторных газов оснащена источником высокоплотной индуктивно связной плазмы. Предназначена для плазмохимического травления кремниевых структур, а также для следующих процессов: 
  • Bosch процессов с углом профиля стенок 90 ± 1° и типовыми размерами структур от 10 нм;
  • Cryo Bosch процессов – охлаждаемый до -150 °C подложкодержатель позволяет осуществлять низкотемпературные процессы травления с высоким аспектным соотношением 30:1, размером гребней боковых стенок < 150 нм и гладкостью < 5 нм;
  • травления кремния по обратной стороне со скоростью > 3500 нм/мин;
  • травления диоксида кремния, кварца, стекла, с однородностью по пластине < ± 5 %;
  • травления оксидных пленок титана со скоростью > 40 нм/мин с наклоном профиля стенок > 80°;
  • травления вольфрама со скоростью > 100 нм/мин и углом профиля > 85°;
  • травления нитрида кремния со скоростью > 100 нм/мин и углом профиля > 88°.
Новости ФМН