Комплекс нанесения, сушки и проявления резистов, Brewer Science (США)

 

Установка для обработки пластин в парах ГМДС 


Установка предназначена для предварительной подготовки поверхности пластины перед нанесением фоторезиста (дегидратации и обработка в парах гексаметилдисилазана). Обеспечивает высокую равномерность и стабильность нагрева.

Основные характеристики и возможности:
  • размер подложек: диаметр от 1 до 200 мм, квадратные 8” x 8”;
  • диапазон температур: от комнатной до 300 оС, точность поддержания температуры: 0.1 оС;
  • равномерность температуры по поверхности нагревательной плиты: 0.3 %;
  • три метода сушки: контактная, вакуумная и с микрозазором.


Установка нанесения фоторезиста  

Установка предназначена для нанесения электроно- и фоторезистов методом центрифугирования и сушки на горячей плите. Оснащена шприцевой системой дозирования резиста, системами отмывки края сверху и снизу.

Основные характеристики и возможности:
  • размер подложек: от 1 до 200 мм, квадратные 7” x 7”;
  • скорость центрифугирования до 12000 об/мин, точность задания скорости 0.2 об/мин;
  • ускорение центрифуги до 30000 об/мин/сек без нагрузки, до 23000 об/мин/сек с подложкой 200 мм;
  • диапазон температур: от комнатной до 300 оС, точность поддержания температуры: 0.1 оС;
  • равномерность температуры по поверхности нагревательной плиты: 0.3 %;
  • три метода сушки: контактная, вакуумная и с микрозазором (программируемые загрузочные штифты);
  • возможность работы как с пластинами, так и с фотошаблонами.
 

Установка сушки фоторезиста 

Установка предназначена для термической обработки пластин на разных этапах формирования фоторезистивной маски (постэкспозиционная термообработка, сушка, дубление).

Основные характеристики и возможности:
  • размер подложек: диаметр от 3 мм до 200 мм, квадратные 8” x 8”;
  • диапазон температур: от комнатной до 400 оС, точность поддержания температуры: 0.1 оС;
  • равномерность температуры по поверхности нагревательной плиты: 0.3 %;
  • возможность управления скоростью нагрева и сушки подложек в инертной среде.
 

Установка охлаждения пластин 

Установка предназначена для охлаждения подложек после температурных обработок на различных этапах формирования фоторезистивной маски.

Основные характеристики и возможности:
  • размер подложек: диаметр от 1 до 200 мм, квадратные 8” x 8”;
  • диапазон температур от 15 оС до комнатной, точность поддержания температуры: 0.1 оС;
  • равномерность температуры по поверхности нагревательной плиты: 0.3 %;
  • возможность охлаждения в контакте, с зазором, в вакуумном контакте.
 

Установка проявления фоторезиста  

Установка предназначена для проявления электроно- и фоторезистов после экспонирования, а также для lift-off процесса (взрывная литография).

Основные характеристики и возможности:
  • размер подложек: от 1 до 200 мм, квадратные 7” x 7”;
  • скорость центрифугирования до 12000 об/мин, точность задания скорости 0.2 об/мин;
  • ускорение центрифуги до 30000 об/мин/сек без нагрузки, до 23000 об/мин/сек с подложкой 200 мм;
  • 5 каналов подачи проявителя;
  • возможность спреевого и струевого проявления.
Последние события ФМН
В НОЦ ФМН созданы сверхпроводниковые кубиты-трансмоны мирового  уровня с временем когерентности в 50 микросекунд
В НОЦ ФМНС созданы сверхпроводниковые кубиты‑трансмоны мирового уровня с временем когерентности в 50 микросекунд
Инженеры и ученые МГТУ им. Н.Э. Баумана и ФГУП «ВНИИА» ГК «Росатом» на базе совместного НОЦ «Функциональные Микро/Наносистемы» (НОЦ ФМН), в кооперации с учеными ИФТТ РАН, МИСиС, МФТИ, РКЦ и НГТУ, разработали технологию создания сверхпроводниковых кубитов со «временем жизни» на уровне 50 микросекунд. Полученные результаты не уступают параметрам квантовых процессоров лучших мировых аналогов от IBM, Google, Intel. Это важнейший шаг на пути к созданию российского универсального квантового компьютера. Ключевые игроки зарождающегося рынка квантовых вычислений выбрали в качестве технологической платформы именно сверхпроводниковые кубиты.
Визит делегации концерна Carl Zeiss и холдинга ОПТЭК
Визит делегации концерна Carl Zeiss и холдинга ОПТЭК
3 ноября прошла встреча с руководством концерна Carl Zeiss и холдинга ОПТЭК. В составе делегации - T. Spitzepfeil – член совета правления концерна, U. Hoffmann – член совета правления концерна, M. Hubensack – президент Zeiss Meditec, J. Novoa – руководитель развития сети региональных партнеров Carl Zeiss Microscopy, G. Bauhammer – менеджер по развитию бизнеса Carl Zeiss Microscopy в РФ, О. Середкина – генеральный директор ООО «ОПТЭК», М. Игельник – управляющий холдинга OPTEC Group, Николас фон Корфф – финансовый директор холдинга OPTEC Group, В. Власенко – директор департамента научного и промышленного материаловедения ООО ОПТЭК, А. Ульяненков – директор департамента междисциплинарных проектов.
Отмечаем год эффективного сотрудничества компании «Маппер» и НОЦ ФМН
Отмечаем год эффективного сотрудничества с компанией «Маппер»
Сложившееся взаимодействие является взаимным – за прошедший год эффективного сотрудничества организации неоднократно «обменялись» заказами на изготовление уникальных изделий и технологических операций...
Modeling of Thermoelectric Generator Power Characteristics for Motorcycle-Type Engines Опубликована работа
Опубликована наша новая статья в журнале "Journal of Electronic Materials"
Modeling of Thermoelectric Generator Power Characteristics for Motorcycle-Type Engines В статье представлена модель для расчёта эксплуатационных характеристик термоэлектрических генераторов для малокубатурных двигателей внутреннего сгорания транспортных средств (например, мотоцикл, квадроцикл или снегоход). Их применение отрывает возможности для получения дополнительной электроэнергии путем утилизации тепловой мощности выхлопных газов. Установка ТЭГ на выхлопной трубе существенно проще, чем замена штатного электро-механического генератора из-за весьма плотной копоновки двс мотоциклетного типа. Разработанная модель позволяет определить основные эксплуатационные характеристики ТЭГ (электрическую мощность, КПД, и массу) при различных вариантах использования. Расчёты выполнены для нескольких компоновок ТЭГ, предложенных для ДВС Yamaha WR450F.
Численное моделирование процессов тепломассопереноса в микрофлюидном тепловом датчике потока Опубликована работа
Опубликована наша новая статья в журнале "Вестник Московского государственного технического университета им. Н.Э. Баумана"
Численное моделирование процессов тепломассопереноса в микрофлюидном тепловом датчике потока ВЕСТНИК МОСКОВСКОГО ГОСУДАРСТВЕННОГО ТЕХНИЧЕСКОГО УНИВЕРСИТЕТА ИМ. Н.Э. БАУМАНА СЕРИЯ: ПРИБОРОСТРОЕНИЕ #5(116)/2017