Разработан технологический процесс формирования серебряных пленок с микронными размерами кристаллитов

В рамках проекта «Наноплазмоника» разработан процесс формирования серебряных пленок электронно-лучевым испарением, для которых при толщине 100 нм более 85% площади занята кристаллитами размером более 500 нм. Среднегеометрическая шероховатость получаемых пленок не превышает 1,2 нм, обеспечивая снижение потерь при распространении плазмонов. Это способствует созданию эффективных устройств для практического применения.

Технология совместима с подложками кварца, сапфира, кремния, слюды. Применение крупнокристаллитных пленок, изготавливаемых по разработанной технологии, позволяет существенно повысить добротность плазмонных устройств за счет радикального улучшения качества топологии изготавливаемых устройств. Дело в том, что при использовании стандартных поликристаллических пленок плазмонных металлов, травление топологии устройств преимущественно идет по границам кристаллитов металлов. Это приводит к неконтролируемому растравливанию стенок, существенному ухудшению шероховатости краев и точности изготовления устройств.