Установки магнетронного осаждения тонких пленок

Установка магнетронного осаждения тонких пленок

 
Установка предназначена для напыления пленок металлов и углеродных покрытий малых толщин для просвечивающих и сканирующих электронных микроскопов.

Основные характеристики и возможности:

• кварцевый измеритель толщин плёнок;
• вращающийся планетарный столик с регулированием наклона для работы с пластинами до 100 мм;
• возможность нанесения углеродных покрытий;
• магнетронное распыление следующих материалов: Au, Ag, Gr, ITO, Au/Pd : 80/20, Pt;
• регулирование тока распыления мишени в диапазоне от 0-80 мА с максимальным временем напыления 60 минут;
• модуль термовакуумного распыления;
• столик для работы с образцами размерами: 15 мм, 10 мм, 6.5 мм или 1/8” в диаметре;
• автоматическая система контроля процесса нанесения;
• вакуумная камера с противоударной защитой;
• многофункциональный тач-дисплей.

Модуль для распыления углерода и золота

 
Система предназначена для нанесения тонких проводящих покрытий (углерод, золото, медь и т.д.) на проводящие и диэлектрические образцы (в т.ч. порошки и пленки) с целью последующего изучения полученных поверхностей с помощью электронной микроскопии и других методов исследований.

Основные характеристики и возможности:

• высокая скорость нанесения покрытия (до 1 нм/сек для золота) без термического разрушения чувствительных образцов;
• размер подложкодержателя диаметром 10.2 см;
• универсальное покрытия для всех размеров и форм;
• распыление в среде инертных газов;
• водяное охлаждение образца.