Установка травления в парах плавиковой кислоты

Установка предназначена для травления окисла кремния в парах плавиковой кислоты. Отсутствие контакта обрабатываемой подложки с жидкой фазой кислоты позволяет избежать слипания микроэлементов.

Основные характеристики и возможности:

• контроль температуры держателя;
• безопасный держатель для обработки в кислоте;
• обработка пластин 100-200 мм, а также кусков пластин;
• электростатический держатель для пластин до 200 мм и кусков пластин;
• обрабатываемые материалы - окислы кремния, стекло, нитрид кремния.

Целевые технологические процессы:

• механическое освобождение микроструктур путем удаления окисла кремния (в том числе жертвенного окисла);
• изменение профиля микроструктур путем частичного подтравливания окисла кремния;
• выравнивание профиля (стенок) микроструктур после глубокого травления кремния (Бош-процесс);
• подготовка поверхности кремниевых пластин путем удаления природного окисла на их поверхности.