В НОЦ ФМН изготовлены первые структуры из фотополимера SU-8 для изделий нанофотоники, МЭМС и микрофлюидики

В НОЦ ФМН разработан процесс фотолитографии с применением негативного резиста SU-8 толщиной до 50 мкм.  Разработаны технологическая операция нанесения толстых 50 мкм пленок резиста SU-8 с неравномерностью толщины ±5% (3σ) по 100 мм кремниевой пластине, измерения толщины нанесенных пленок неразрушающим методом и фотолитографии с предельным разрешением до 15 мкм.

Резист SU-8 обладает уникальными свойствами, среди которых высокие оптические, химические и диэлектрические свойства, сочетающиеся с высоким разрешением. 

 

 

Разработанный технологический процесс и структуры SU-8 могут быть использованы не только в качестве технологических слоев при проведении электрохимических процессов и плазмохимического травления, но и в качестве функциональных структур (конструкционных материалов) в изделиях МЭМС/МОЭМС, микросбороках, микрофлюидных системах и т.д.