Впервые в мире получены монокристаллические пленки серебра толщиной менее 35 нм
Впервые в мировой практике разработан процесс формирования сплошных монокристаллических пленок серебра толщиной в диапазоне 35-100 нм. Пленки получены методом электронно-лучевого испарения и обладают шероховатостью поверхности не хуже 0,2 нм (RMS) на площади 2,5х2,5 мкм и 0,5 нм на площади 90х90 мкм.
Рентгеноструктурный анализ изготовленных образцов подтвердил высокую степень качества кристаллической решетки (ω-scan FWHM = 0,244). Сравнение результатов EBSD (дифракция обратно отраженных электронов) анализа нанокристаллических и монокристаллических пленок также наглядно демонстрирует высокую степень кристалличности полученных пленок, разориентация по углу кристаллитов для которых составила менее 1˚.
Разработанный процесс осаждения совместим с подложками кремния и слюды. Получаемые пленки стабильны во времени и при проведении технологических процессов формирования топологии устройств (отмывка, литография, травление и т.п.).