
Bauman Sci-Pub Challenge 2024: команда НОЦ ФМН в призах
Руководитель центра Илья Родионов и аспиранты Дарья Москалева и Никита Коршаков заняли 4-е место в общеуниверситетском рейтинге публикаций
Hydrofluoric acid etching unit
The unit is intended for etching silicon oxide in hydrofluoric acid vapor. The lack of contact of the processed substrate with the liquid phase of the acid avoids the adhesion of trace elements.
Key features and capabilities:
Targeted technological processes: