Установка электронно-лучевого осаждения тонких пленок EvoVac, Angstrom Engineering (Канада)

Evovac1.2.jpg 
Установка предназначена для формирования тонких плёнок металлов, сплавов, диэлектриков, полупроводников и нанокомпозитов различного состава, толщиной от единиц нанометров до десятков микрон. Возможно нанесение до 7 различных материалов в одном вакуумном цикле. Особенности конструкции установки позволяют использовать источник ионов для предварительной очистки и активации подложек, а также при ассистировании нанесению. Регулировка температуры подложкодержателя от -190 °С до 500 °С позволяет получать пленки от рентгеноаморфной до монокристаллической структуры. Наличие оптического контроля делает установку идеальным инструментом для получения светофильтров, просветления оптики, создания рентгеновских зеркал. Возможность работать в ИК диапазоне позволяет использовать оптический контроль не только при работе с оптически прозрачными подложками, но и с кремнием, который прозрачен в ИК-диапазоне. Кварцевый датчик нанесения позволяет контролировать толщины до единиц микрометров – т.е. работает с диапазонами, в которых невозможно пользоваться оптическим контролем.

Основные характеристики и возможности:
  • двухлучевой электронный источник испарения, 7 тиглей;
  • бессеточный ионный источник без нити накаливания;
  • диаметр подложек до 200 мм;
  • постоянное вращение подложкодержателя до 40 об/мин;
  • неравномерность ± 2 % на диаметре 200 мм;
  • охлаждение подложкодержателя до криогенных температур жидким азотом;
  • нагрев подложкодержателя до 500 °С;
  • оптический контроль с монохроматором и длинной волны от 350 до 2500 нм;
  • датчики скорости осаждения.
Последние события ФМН