Завершены приемо-сдаточные испытания и введен в эксплуатацию комплекс нанесения/сушки/проявления резистов

13 august 2015
Завершены приемо-сдаточные испытания и ввод в эксплуатацию комплекса нанесения/сушки/проявления резистов серии CEE200 компании Brewer Science, США. 
Комплекс предназначен для нанесения тонких пленок различных резистов для электронно-лучевой, лазерной и оптической литографии.

 
All news